[뉴스토마토 윤민영 기자] 최신 반도체 기술을 해외 경쟁 업체로 빼돌린 혐의를 받는 전직 삼성 엔지니어가 1심에서 집행유예를 선고 받은 가운데 검찰이 더 엄정한 형을 받아야 한다며 항소했습니다.

 

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(이성범 부장검사)는 삼성전자의 최신 반도체 초미세 공정 자료를 빼돌린 삼성전자 전직 부장 A(44)씨에 대한 1심 판결 결과에 대해 양형 부당을 이유로 지난달 31일 항소를 제기했다고 3일 밝혔습니다.

 

앞서 검찰은 지난해 A씨를 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외 누설 등) 및 산업기술보호법 위반 등의 혐의로 기소한 바 있습니다. 검찰은 A씨를 재판에 넘기면서 징역 5년과 벌금 1억원을 구형했습니다.

 

그러나 최근 서울중앙지법은 A씨에 대해 징역 1년 6월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했습니다.

 

A씨는 인텔에 입사하기 위해 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가 핵심 기술 및 영업 비밀 등 33개 파일을 이메일로 링크한 뒤 외부에서 이를 열람하면서 사진 촬영해 부정 취득한 혐의를 받습니다.

 

검찰 관계자는 "해외로 유출될 경우 국가의 안전 보장과 국민 경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정 기술을 부정 취득해 사익 목적으로 활용했다"며 "그럼에도 본인의 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려할 때 더 무거운 처벌을 받게 할 필요가 있다"고 판단했습니다.

 

 

윤민영 기자 min0@etomato.com