[뉴스토마토 박진아 기자] 3분기 분기 기준 역대 최대 실적을 달성한 삼성전자가 시설투자도 사상 최대 규모로 확대했다. 올해 시설투자는 지난해보다 20조원 이상 증가한 가운데, 반도체와 디스플레이 사업에 집중됐다.

 

삼성전자는 31일 '2017년 시설투자 계획'을 발표하고, 올해 전체 시설투자가 약 46조2000억원으로 예상된다고 밝혔다. 이는 지난해 25조5000억원보다 20조7000억원 급증한 수준으로, 사상 최대 규모다.

 

 

사업별로는 반도체에 29조5000억원, 디스플레이에 14조1000억원, 생활가전·의료기기·무선사업에 2조6000억원의 투자가 집행된다. 시설투자 대부분이 반도체와 디스플레이 사업에 집중됐다. 지난해 반도체에 13조2000억원, 디스플레이에 9조8000억원이 투자된 것과 비교하면 올해는 각각 16조3000억원, 4조3000억원 증가했다. 올해 반도체 시설투자는 메모리와 시스템LSI 비중이 7대 3 정도가 될 것이란 설명이다. 메모리 내 D램과 낸드플래시 투자 비중은 4대 6으로, D램이 좀 더 적다.

 

삼성전자가 특히 반도체에 통 큰 투자를 결정한 것은 사상 최대 영업이익을 기반으로 주력 부문에 공격적인 투자를 단행함으로써 호황을 적극 누리겠다는 공격적 전략으로 분석된다. 2위와의 격차를 넓히는 초격차 전략도 유지된다. 현재 메모리의 경우 증가하는 V낸드 수요에 대응하기 위해 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행 중이며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자가 집중되고 있다. 디스플레이는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.

 

삼성전자 관계자는 "4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망"이라고 말했다.

 

한편 3분기 시설투자는 10조4000억원이며 반도체에 7조2000억원, 디스플레이에 2조7000억원 등이 집행됐다. 3분기 누계 기준으로는 총 32조9000억원이 시설투자에 쓰였다.

  

박진아 기자 toyouja@etomato.com